北京北印东源新材料科技有限公司是高阻隔薄膜，等离子体化学气相沉积（PECVD）设备和原子层沉积设备等产品专业生产加工和设备制造的公司，拥有完整、科学的质量管理体系。 本公司 原子层沉积ALD （ atomic layer deposition ）设备 及沉积技术来源于北京印刷学院陈强教授及其科研团队在ALD 方面研究的多年成果。该科研团队与多个高校和科研院所联合开发多种类型原子层沉积设备和镀膜工艺研究，并为企业提供原子层沉积设备工艺调试和样品处理等。 原子层沉积系统是制备高性能致密薄膜的重要手段，具有良好的台阶覆盖率和精确的膜厚控制能力，主要用于燃料电池催化剂，氮化物，氧化物薄膜等沉积。